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MBI

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IMF : l’IMPLANTEUR MULTI-FAISCEAUX

Produire un faisceau large à très haute intensité et à basse énergie pour traiter des surfaces de forme et de taille diverses, variées et à moindre coût est le défi relevé par Pascal Sortais. Une source d’ions à faisceau large unique est remplacée par une multitude de petites sources, très compactes et très fiables, permettant de soliciter une cible d’évaporation ou un substrat sous n’importe quel angle.

» Description et fonctionalités

Dispositif compact et adaptable à la géometrie de la cible, générateur de micro-sources d’ions en multi-faisceaux pour le traitement de surface de toute nature : traitement plasma, dépôt, pulvérisation, implantation ionique,…

» Technologie

- Technologies micro-ondes de miniaturisation issues des accélérateurs de particules (cavité résonante).
- Un micro générateur de plasma utilisant une puissance et une technique proche de celle des téléphones portables permet une approche radicalement nouvelle dans la génération de rayonnement énergétique ou de faisceaux d'ions.

» Performances

- Miniaturisation
- Adaptable
- Fonctionnement à basse température et faible puissance
- Contrôle de l’énergie
- Dimensions du faisceau variables
- Traitement de formes variables
- Technologie propre

» Cible

Métaux et polymères

» Domaines d'applications

- nanotechnologies, nano-usinage & nano-analyse : sources pour colonne FIB/SIMS)
- dopage : sources pour implanteur d’ions de l’industrie de la microélectronique
- coating, énergie solaire, miroir, OLED : sources pour faisceaux larges de basse énergie pour l’industrie des dépôts.
- Modifications de propriété de matériaux : Les sources hautes énergie pour l’industrie des surfaces

» Laboratoire

LPSC-Laboratoire de Physique Subatomique et de Cosmologie. réf. 0800606-SORTAIS_IMF_ background_FR_1

» Offre de transfert

Licence, Start-up

» Collaborations recherchées

Démonstrateur existant : implanteur industriel haute énergie dans les métaux et les polymères. Recherche un fabricant du dispositif.

Interview

Chacune des sources d’ions fournissent qu’une partie du faisceau global permettant ainsi de traiter des grandes surfaces avec une meilleure fiabilité et à moindre coût.